ASML EUV光刻機產能提升到每年90臺 助于緩解產能不足的問題

    來源: 快科技2022-06-16 17:00:50
      

    在半導體生產中,光刻機是核心設備,不僅決定了芯片制造的工藝水平,也是耗時最多、成本最高的一步,目前先進的7nm、5nm及接下來的3nm都需要EUV光刻機,一臺售價將近10億人民幣,目前還是供不應求。

    EUV光刻機目前只有荷蘭ASML公司可以生產,他們的產能將決定全球先進工藝擴張的速度,日前ASML公司高級副總裁Christophe Fouquet在高盛會議上確認,將增加EUV光刻機的產能。

    他們原本預計在2025年的時候EUV年產能是70臺,現在決定提升到每年90臺,有助于緩解產能不足的問題。

    今年Q2季度還沒結束,ASML公司就收到了超過100臺EUV光刻機的訂單,這已經大大超過了他們的產能,今年該公司計劃出貨EUV光刻機不過55臺,只能滿足一半的訂單量,客戶都要排隊等待。

    關鍵詞: 半導體生產 光刻機是核心設備 芯片制造的工藝水平 荷蘭ASML公司

    責任編輯:sdnew003

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